查看近期新聞，及時了解行業的熱門話題
2025年10月01日
日前由光馳半導體技術（上海）有限公司研發的首臺用于高端光學應用的反應等離子體刻蝕設備（DEG-4050），已于9月30日正式出荷海外總部。此舉標志著光馳半導體在核心工藝系列裝備領域取得了重大突破，為高端光學制造裝備的產品系列寫下了濃重的一筆。
本次出荷的設備將主要用于精密光學元件，如AR/VR衍射光波導、微透鏡陣列、超表面光學元件等的納米級刻蝕加工。該設備集成了高密度等離子體源、精密的腔室溫度控制以及先進的氣體輸送系統，能夠實現極高各向異性和選擇比的刻蝕工藝，滿足下一代光學產品對圖形精度極致要求。
同時與納米壓印、噴涂設備工藝結合是形成有效解決微納圖形制造難題的組合拳。兩者共同構成了面向半導體光學等高端應用的完整微納制造的解決方案。
光馳半導體首臺高端光學應用的反應等離子體刻蝕設備出荷
光馳半導體技術（上海）有限公司獲得2億人民幣A輪融資
喜報2024
2024年度光馳集團技術研討會
光馳半導體新廠房，正式啟用
【邀請函】2023中國真空技術與半導體應用大會暨半導體真空設備與零部件高端論壇
寶山 “高新杯”職工運動會 “3V3籃球賽” 光馳半導體籃球隊奪冠
光馳半導體原子層鍍膜與刻蝕設備項目一期，封頂！
光馳半導體技術（上海）有限公司新廠房開工奠基儀式
”光馳半導體技術（上海）有限公司“在寶山高新區北區用地成功摘牌
滬公網安備31011302007876